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 內(nèi)容編輯

電解拋光  

    電解拋光基本原理與化學(xué)拋光相同，即靠選擇性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。與化學(xué)拋光相比，可以消除陰極反應(yīng)的影響，效果較好。電化學(xué)拋光過(guò)程分為兩步：  

    （1）宏觀整平 溶解產(chǎn)物向電解液中擴(kuò)散，材料表面幾何粗糙下降，Ra＞1μm。  

    （2）微光平整 陽(yáng)極極化，表面光亮度提高，Ra＜1μm。